| 发明名称 |
PROCEDE DE REDUCTION DES DEFAUTS DANS UN FILM ORDONNE DE COPOLYMERE A BLOCS |
| 摘要 |
La présente invention concerne un procédé de réduction du nombre de défauts d'un film ordonné comprenant un copolymère à blocs (BCP). L'invention concerne également les compositions utilisées obtenir ces films ordonnés et les films ordonnés ainsi obtenus pouvant être utilisés en particulier comme masques dans le domaine de la lithographie. |
| 申请公布号 |
FR3031751(A1) |
申请公布日期 |
2016.07.22 |
| 申请号 |
FR20150050470 |
申请日期 |
2015.01.21 |
| 申请人 |
ARKEMA FRANCE |
发明人 |
NAVARRO CHRISTOPHE;CHEVALIER XAVIER;NICOLET CELIA;INOUBLI RABER |
| 分类号 |
C09D153/00;C08J5/18;C08L53/00;G03F1/00 |
主分类号 |
C09D153/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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