发明名称 OVERLAY MEASUREMENT OF PITCH WALK IN MULTIPLY PATTERNED TARGETS
摘要 오버레이 측정치를 이용해 피치 워크 측정을 가능하게 하는 다중 패터닝된 계측 타겟 및 타겟 설계 방법이 제공된다. 피쳐 또는 스페이서 쌍과 동시에 생성되며 이들 쌍과 공통 피치를 공유하는 단일의 피쳐 또는 스페이서를 구비한 다중 패터닝된 구조는 피치 워크를 구조들 간의 측정 가능한 오버레이로서 나타내는데 이용된다. 예를 들어, 각각의 피쳐 또는 스페이서 쌍과 동시에 생성되며 이들 쌍과 공통 피치를 공유하는 단일의 좌측 피쳐 또는 스페이서를 구비한 제1 다중 패터닝된 구조와, 상기 각각의 피쳐 또는 스페이서 쌍과 동시에 생성되며 이들 쌍과 공통 피치를 공유하는 단일의 우측 피쳐 또는 스페이서를 구비한 제2 다중 패터닝된 구조를 포함하는 타겟이 제공된다.
申请公布号 KR20160108368(A) 申请公布日期 2016.09.19
申请号 KR20167020135 申请日期 2015.01.14
申请人 KLA-TENCOR CORPORATION 发明人 AMIR NURIEL
分类号 G01N21/47;B05D1/32;G01N21/01;G03F7/20 主分类号 G01N21/47
代理机构 代理人
主权项
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