Electron microscope with scanning beam.

摘要

Bei den üblichen Anlagen dieser Art wird der primäre Elektronenstrahl mit seiner Auftreffstelle längs paralleler Linien (Zeilen) über die Oberfläche eines zu untersuchenden Werkstücks W geführt. Die dabei entstehenden Sekundärelektronen werden dabei zur Erzeugung eines sich kontinuierlich verändernden elektrischen Signals verwendet, welches zur Steuerung einer Auswertestelle AU, z.B. des Elektronenstrahls einer Fernsehröhre dient. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren hingegen wird das Signal derart erzeugt, daß der primäre Elektronenstrahl infolge einer entsprechenden Führung der Auftreffstelle und Tastung mehrmals hintereinander auf die gleiche Abtaststelle an der Oberfläche des Werkstücks W zur Einwirkung gebracht wird. Die dabei entstehenden Teilsignale werden gesammelt und vereint zur Steuerung der Auswertestelle verwendet. Dadurch kann die Intensität des primären Elektronenstrahls PE reduziert und dennoch die Empfindlichkeit gesteigert werden.