| 发明名称 |
WERKWIJZE VOOR HET VORMEN VAN EEN IJZEROXYDEFILM; WERKWIJZE VOOR HET VERVAARDIGEN VAN EEN FOTOMASKER. |
| 摘要 |
<p>A technique for the preparation of iron oxide films designed for use as photomasks for thin film and semiconductor processing involves sputtering iron in a carbon monoxide ambient containing carbon dioxide upon a substrate member.</p> |
| 申请公布号 |
NL170025(C) |
申请公布日期 |
1982.09.16 |
| 申请号 |
NL19710017890 |
申请日期 |
1971.12.27 |
| 申请人 |
WESTERN ELECTRIC COMPANY, INCORPORATED TE NEW YORK. |
发明人 |
|
| 分类号 |
C23C14/00;G03F1/54;(IPC1-7):23C15/00;03F1/00 |
主分类号 |
C23C14/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
