| 发明名称 |
PHOTORESIST STRUCTURE PARTICULARLY SUITABLE FOR PHOTOLITHOHRAPHICALLY DEPOSITING PARALLEL METAL STRIPS ON TO A BASE SUBSTRATE AND THE METHOD FOR FORMING IT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2023857(B) |
申请公布日期 |
1982.09.15 |
| 申请号 |
GB19790009598 |
申请日期 |
1979.03.19 |
| 申请人 |
CISE CENTRO INFORMAZIONI STUDI ESPERIENZE SPA |
发明人 |
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| 分类号 |
G03F7/38;H01L21/027;H01L21/285;H01L21/336;H01L21/338;(IPC1-7):G03C5/00;H01L21/28 |
主分类号 |
G03F7/38 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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