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发明名称 EXPOSURE MASK FOR THIN LAYER ENGINEERING
摘要
申请公布号 JPS57122440(A) 申请公布日期 1982.07.30
申请号 JP19810183181 申请日期 1981.11.17
申请人 BEBU HOOHIBAAKUUMU DORESUDEN 发明人 HERUMUUTO BORINGERU;BERUNTO BIYUTSUKEN;RUYUUDEIGERU UIRUBERUKU
分类号 G03F1/00;G03F1/54;G03F7/26;H01L21/027;H01L21/30 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人
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