发明名称 |
HIGH TEMPERATURE MULTIPOLE PLASMA ION BEAM SOURCE |
摘要 |
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申请公布号 |
JPS57113539(A) |
申请公布日期 |
1982.07.15 |
申请号 |
JP19810146426 |
申请日期 |
1981.09.18 |
申请人 |
INTERN BUSINESS MACHINES CORP |
发明人 |
JIYON EICHI KERAA;CHIYAARUZU EMU MATSUKENNA |
分类号 |
H01J27/08;H01J27/14;H01J37/08 |
主分类号 |
H01J27/08 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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