| 发明名称 |
Selective etching of indium oxide and/or stannic oxide - by mixt. contg. conc. hydrochloric acid, conc. orthophosphoric acid, and small amt. of hydrogen peroxide |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE3047218(A1) |
申请公布日期 |
1982.07.15 |
| 申请号 |
DE19803047218 |
申请日期 |
1980.12.15 |
| 申请人 |
SIEMENS AG |
发明人 |
MARTIN,HUBERT;PEETERMANS,ANDRE,DIPL.-CHEM. |
| 分类号 |
C04B41/53;C04B41/91;(IPC1-7):09K13/04;09F9/00 |
主分类号 |
C04B41/53 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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