VERFAHREN ZUR BESTIMMUNG DER PROFILPARAMETER BIPOLARER SI-EPITAXIE-PLANARSCHALTKREISE,申请号DD19800226663-传众专利搜索

发明名称	VERFAHREN ZUR BESTIMMUNG DER PROFILPARAMETER BIPOLARER SI-EPITAXIE-PLANARSCHALTKREISE
摘要
申请公布号	DD155932(A1)	申请公布日期	1982.07.14
申请号	DD19800226663	申请日期	1980.12.24
申请人	EIGLER,HANS,DD;MOELLER,WILHELM,DD;SCHMALWASSER,WILFRIED,DD	发明人	EIGLER,HANS,DD;MOELLER,WILHELM,DD;SCHMALWASSER,WILFRIED,DD
分类号	G01R31/26;(IPC1-7):G01R31/26	主分类号	G01R31/26
代理机构		代理人
主权项
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