首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 ION SOURCE, IN PARTICULAR FOR AN ION IMPLANTATION DEVICE
摘要
申请公布号 EP0002406(B1) 申请公布日期 1982.07.14
申请号 EP19780400190 申请日期 1978.11.17
申请人 ANVAR AGENCE NATIONALE DE VALORISATION DE LA RECHERCHE 发明人 CAMPLAN, JEAN;CHAUMONT, JACQUES;MEUNIER, ROBERT
分类号 H01J27/02;H01J27/08;H01J37/08;H01J37/317;H01L21/265;(IPC1-7):01J37/08;01J27/26 主分类号 H01J27/02
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com