| 发明名称 |
VERFAHREN ZUM HERSTELLEN VON STRUKTUREN VON AUS SILIZIDEN ODER AUS SILIZID-POLYSILIZIUM BESTEHENDEN SCHICHTEN DURCH REAKTIVES SPUTTERAETZEN |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
DE3045922(A1) |
申请公布日期 |
1982.07.08 |
| 申请号 |
DE19803045922 |
申请日期 |
1980.12.05 |
| 申请人 |
SIEMENS AG |
发明人 |
BEINVOGL,WILLY,DR.RER.NAT. |
| 分类号 |
H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/31;H01L21/31;H01L21/72 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
