发明名称 Electrode for a plasma etchings plant.
摘要 Zum Reinigen von Bohrungen in Leiterplatten ist das Plasma-Ätzen bekannt. Bei den auf dem Markt befindlichen Anlagen mit Plattenelektroden und Ringelektroden sind die Abtragsraten zu klein und die Gleichmäßigkeit des Abtrags im Reaktor nicht ausreichend. Nach der Erfindung werden die Elektroden so angeordnet, daß sich jede Leiterplatte in einem eigenen ionenfreien Raum befindet. Dabei ist jede Leiterplatte von einer mit einer Hochfrequenzquelle verbundenen kastenförmigen Elektrode umgeben.
申请公布号 EP0051174(A2) 申请公布日期 1982.05.12
申请号 EP19810108291 申请日期 1981.10.13
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 BRABETZ, BERNHARD, DIPL.-ING.;MANN, WOLFGANG;STEINER, RAINER, DIPL.-PHYS
分类号 H05K3/00;(IPC1-7):H05K3/00;H05K3/26;H01L21/26;C23F1/00;H05H1/24 主分类号 H05K3/00
代理机构 代理人
主权项
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