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Es wird ein lichtempfindliches Kopiermaterial für die Herstellung von Druckplatten und Photoresists beschrieben, das als lichtempfindliche Verbindung einen Naphthochinondiazidsulfonsäureester der allgemeinen Formel I <IMAGE> enthält, worin D einen Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-4-sulfonyl- oder einen Naphthochinon-(1,2) -diazid-(2)-5- sulfonylrest, R1 ein Wasserstoffatom oder den Rest -COCnH2+1 und R2 ein Wasserstoffatom oder den Rest -CO-OCnH2n+1 bedeutet, wobei n eine Zahl von 10 bis 25 und die Summe der Kohlenstoffatome von R1 + R2 = n + 1 ist. Die neuen Chinondiazide zeichnen sich durch höhere Löslichkeit und Entwicklerresistenz aus.
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