| 发明名称 |
PROCEDIMENTO ED APPARECCHIATURA PER L ESPOSIZIONE DI UNO STRATO DI GELATINA FOTOSENSIBILE DEPOSITATE SU UN SUBSTRATO PARTICOLARMENTE PER LA FABBRICAZIONE DI DISPOSITIVI ELETTRONICI A SEMICONDUTTORI |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IT8267548(D0) |
申请公布日期 |
1982.04.26 |
| 申请号 |
IT19820067548 |
申请日期 |
1982.04.26 |
| 申请人 |
HITACHI LTD.;VEB CARL ZEISS JENA |
发明人 |
YASUHIRO KOIZUMI SOICHI TORISAWA;WALTER GARTNER GUDRUN DIETS;WOLFGANG RETSCHKE |
| 分类号 |
H05K3/00;G03B27/02;G03F7/20 |
主分类号 |
H05K3/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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