首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 VORRICHTUNG ZUR ERFASSUNG DER SEKUNDAERELEKTRONEN IN EINEM RASTERELEKTRONENMIKROSKOP
摘要
申请公布号 DE3126575(A1) 申请公布日期 1982.04.22
申请号 DE19813126575 申请日期 1981.07.06
申请人 NIHON DENSHI K.K., AKISHIMA, TOKYO, JP 发明人 TAMURA, NOBUAKI;TAKASHIMA, SUSUMU, AKISHIMA, TOKYO, JP
分类号 C07D319/18;G01N23/22;H01J37/244;H01J37/26;(IPC1-7):H01J37/28;H01J37/24 主分类号 C07D319/18
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com