发明名称 喷溅涂覆装置标的物之阴极/接地屏障装置
摘要
申请公布号 TW103160 申请公布日期 1988.09.01
申请号 TW075102777 申请日期 1986.06.18
申请人 西屋电气公司 发明人 艾柏特.旦尼尔.葛雷瑟
分类号 H01L21/203 主分类号 H01L21/203
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.一种溅镀体膜装置标的物包含一长形之阴极,溅镀标的物材料置于其一例之阴极外表面上,以及一接地之遮敝器内具有阴极置于其内包含有环绕阴极之接地遮敝器,所述之接地遮敝器包围阴极之每一例除了所述之接地遮敝器之开口面之外,因而使得所述之标地材料曝露于外,而且所述之阴极以及接地遮敝器为分离并且以一个定义于其中之间隙以电性孤立,其特征为装置(90)置于阴极(56)之所述之外表面(60)之边缘部分(66),并且形成一连续之边缘脊部(94)横向向外伸出所述之边缘脊部部分(66)而且悬于所述之间隙(96)以及接地遮敝器(84)之所述壁上(88)之邻(86)之上且成为间隔之关系。2.依请求专利部分第1.项之溅镀覆膜装置标的物,其特征为所述之装置(90)形成所述之脊部(94)内包含一长条结构向周围伸出于所述之阴极(56)之所述之外表面(60)之四周于其所述之周围边缘部分(60)上方。3.依请求专利部分第2.项之溅镀覆膜装置标的物,其特征为所述之溅镀标的材料(58)具有一个补助之固定器(65)围绕着溅镀之标的物材料并且被支撑于所述封阴极(56)之所述之外表面(60)之所述边缘部分(66),所述之长条(90)紧缚于所述之固定器(65)之上且由此横向延伸且形成所述之脊部(94)。图式简单说明:图1为一溅镀装置之简化图形;图2为一简化固示出溅镀之装置,其中之鼓状(drum)由溅镀腔内抽出;图3为装置之开口腔之下方部分之前方透视图,如所见,当由鼓形内视入时显示两个前述之设计之固定下方标的物;图4为鼓状之后方透视图,示出所述之先前设计之固定上标的物;图5为由图1中之沿5一5线之简化截面图,并且示出豉状之含粒子元件以及固定下方及上方标的物;图6为-图5中所视之粒子之一顶视,平面,详细图上方部分为切开来;图7为图3及4固定物标的物之一之长型顶视平面图;图8为图7中之沿线8一8之铅直纵向截面图:图9为本发明之实施例中之固定标的物之分解上视平面图;图10为图9中之沿线10-10所视之分解侧面直立图;图11为图9及10之接地屏障之铅直纵向截面图,但尺寸缩小;以及图12为图11中之沿线12-12之接地屏障之铅直纵向截面图。
地址 美国