发明名称 System for reactive ion etching.
摘要
申请公布号 EP0047395(A2) 申请公布日期 1982.03.17
申请号 EP19810106090 申请日期 1981.08.04
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 HENDRICKS, CHARLES JOSEPH;HICKS, WILLIAM WALLACE;KELLER, JOHN HOWARD
分类号 H01L21/302;H01J37/32;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/20 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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