| 发明名称 |
Mask alignment for semiconductor processing |
| 摘要 |
A high power microscope is fitted with a gas jet arrangement for blowing a thin flexible mask into local contact with a semiconductor substrate so as to facilitate mask alignment.
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| 申请公布号 |
US4315692(A) |
申请公布日期 |
1982.02.16 |
| 申请号 |
US19800201945 |
申请日期 |
1980.10.29 |
| 申请人 |
INTERNATIONAL STANDARD ELECTRIC CORPORATION |
发明人 |
HEINECKE, RUDOLF A. H.;MOULE, DAVID J. |
| 分类号 |
G02B21/00;G03F9/00;(IPC1-7):G01B11/00;G03B27/64 |
主分类号 |
G02B21/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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