| 发明名称 |
An apparatus for continuous treatment of a continuous-length material with low temperature plasma |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2080611(A) |
申请公布日期 |
1982.02.03 |
| 申请号 |
GB19810018765 |
申请日期 |
1981.06.18 |
| 申请人 |
SHIN ETSU CHEMICAL CO LTD;HITACHI LTD;TORAY INDUSTRIES INC |
发明人 |
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| 分类号 |
B01J19/08;B29C59/14;B29C71/04;B29D7/01;C08J7/00;D06B19/00;D06M10/02;F16J15/00;F16J15/16;H01J37/18;(IPC1-7):H01J37/00 |
主分类号 |
B01J19/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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