| 发明名称 |
HIGH-TEMPERATURE TREATING DEVICE FOR GAS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5712826(A) |
申请公布日期 |
1982.01.22 |
| 申请号 |
JP19810061506 |
申请日期 |
1981.04.24 |
| 申请人 |
WACKER CHEMITRONIC |
发明人 |
HERUMUUTO HAMUSUTAA;FURANTSU KETSUPURU;FURANTSU SHIYURAIEEDERU;RUUDORUFU GURIISUHANMAA |
| 分类号 |
F24H3/04;B01J12/00;B01J19/00;C01B33/107 |
主分类号 |
F24H3/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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