| 发明名称 |
PROCEDIMENTO PER LA PRODUZIONE DI DISEGVI MEDIANTE INCISIONE A POLVE RIZZAZIONE CATODICA |
| 摘要 |
Use of silicon oxide as an etching mask for sputter-etching. |
| 申请公布号 |
IT1055539(B) |
申请公布日期 |
1982.01.11 |
| 申请号 |
IT19730069925 |
申请日期 |
1973.10.04 |
| 申请人 |
PHILIPS NV |
发明人 |
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| 分类号 |
H05K3/08;C23F1/00;H01L21/00;H01L21/033;H01L21/302;H01L21/306;H01L21/3065;H01L21/3205;H01L23/29;(IPC1-7):H01L/ |
主分类号 |
H05K3/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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