Method and equipment for checking an optical system.

摘要

Zur Prüfung optischer Abbildungssysteme, z. B. photolithographischer Kopiermaschinen, auf lokale Verzeichnung und Maßstabsfehler wird in einem ersten Schritt ein Interferogramm eines Originalmusters (z.B. lineares Gitter 1) von zwei symmetrisch auf das Originalmuster auftreffenden Lichtbündeln (3, 4) erzeugt und in einem zweiten Schritt unter identisch gleichen Bedingungen ein Interferogramm der Kopie des Originalmusters, die vom zu prüfenden Abbildungssystem erzeugt wurde. Zur Aufnahme der Interferogramme wird der Einfallswinkel (β) so gewählt, daß in Richtung der Normalen zu den Mustern eine bestimmte gewünschte Beugungsordnung registriert werden kann. Die relativen Abweichungen der beiden (optisch oder elektronisch gespeicherten) Interferogramme geben ein Maß für die Verzeichnung an jedem einzelnen Punkt des Bildfelds. Zur gleichzeitigen Bestimmung der Verzeichnung in beiden Koordinatenrichtungen wird anstelle eines linearen Gitters ein Gitterfeld mit mehreren orthogonal zueinander orientierten Gittern verwendet. Die Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens besteht in einer Aufnahme, in der nacheinander die beiden miteinander zu vergleichenden Muster reproduzierbar eingelegt werden und symmetrisch beleuchtet werden können.