发明名称 MASK STRUCTURE FOR X-RAY LITHOGRAPHY.
摘要
申请公布号 EP0029058(A4) 申请公布日期 1981.11.25
申请号 EP19800901105 申请日期 1980.12.01
申请人 WESTERN ELECTRIC COMPANY, INCORPORATED 发明人 LEPSELTER, MARTIN PAUL;LEVINSTEIN, HYMAN JOSEPH;MAYDAN, DAN
分类号 G03F1/00;G03F1/14;H01L21/30;(IPC1-7):G03B41/16 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人
主权项
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