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<P>L'INVENTION CONCERNE UN DISPOSITIF A PROFILER UN FAISCEAU ELECTRONIQUE.</P><P>CE DISPOSITIF COMPREND UNE PREMIERE OUVERTURE 28 ET UNE SECONDE OUVERTURE 30 DANS LESQUELLES UN FAISCEAU ELECTRONIQUE 20 EST FOCALISE PAR UNE PREMIERE LENTILLE ASSUMANT LA FONCTION D'UN CONDENSEUR. DES ELEMENTS, PRODUISANT UNE DOUBLE DEVIATION DU FAISCEAU ET POUVANT COMPRENDRE DES NOYAUX ELECTROMAGNETIQUES 38, 40, 42, 44 OU DES PLAQUES DE DEVIATION ELECTROSTATIQUE, SONT PLACES ENTRE LES PLAQUES 32, 34 A OUVERTURE AFIN QUE L'IMAGE DES DEUX OUVERTURES PUISSE ETRE FOCALISEE SUR LA CIBLE.</P><P>DOMAINE D'APPLICATION: TRAITEMENT PHOTOLITHOGRAPHIQUE DE GALETTES A SEMI-CONDUCTEURS.</P>
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