| 主权项 |
1.一种可擦拭可程式唯读记忆体,包含: (1)唯读记忆体晶片,经由紫外光照射,可以擦拭记 忆内容,等待重新写入; (2)第一金属基材,承载前述之晶片; (3)第二金属基材,以一打线,耦合至前述之晶片; (4)透光胶,封装保护前述之晶片;以及 (5)遮光单元,可以重复撕开与黏贴,安置于前述之 透光胶外部,遮蔽紫外光之射入。 2.如申请专利范围第1项所述之可擦拭可程式唯读 记忆体,更进一步包括:第三金属基材,以一打线,耦 合至前述之晶片。 3.如申请专利范围第1项所述之可擦拭可程式唯读 记忆体,其中所述之晶片,其中所述之遮光单元,系 指:可以重复黏贴之薄片。 4.一种可擦拭可程式唯读记忆体,包含: (1)唯读记忆体晶片,经由紫外光照射,可以擦拭记 忆内容,等待重新写入; (2)电路板基材,其设有一承载前述晶片之第一电路 ; (3)第二电路,其设置于该电路板,以一打线,耦合至 前述之晶片; (4)透光胶,封装保护前述之晶片; (5)遮光单元,可以重复撕开与黏贴,安置于前述之 透光胶外部,遮蔽紫外光之射入;以及 (6)母板,其设置于该电路板基材之下方,其中该第 二电路电性连接至该母板。 5.如申请专利范围第4项所述之可擦拭可程式唯读 记忆体,更进一步包括:第三电路,以一打线,耦合至 前述之晶片。 6.如申请专利范围第4项所述之可擦拭可程式唯读 记忆体,其中所述之晶片,其中所述之遮光单元系 为一可以重复黏贴之遮光薄片,该遮光薄片之面积 大于所述之晶片上表面之面积。 图式简单说明: 图1. 先前技艺 图2. 本发明实施例一 图3. 本发明实施例二 图4. 本发明实施例三 图5. 本发明实施例四 图6. 本发明实施例五 图7. 本发明实施例六 |
