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VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON FOTOLACKSTRUKTUREN FUER INTEGRIERTE HALBLEITERSCHALTUNGEN
摘要
申请公布号
DE3016050(A1)
申请公布日期
1981.10.29
申请号
DE19803016050
申请日期
1980.04.25
申请人
SIEMENS AG
发明人
SIGUSCH,REINER
分类号
H01L21/30;H01L21/027;H01L21/265;(IPC1-7):H01L21/72;G03F7/26
主分类号
H01L21/30
代理机构
代理人
主权项
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