发明名称 PATTERNING PROCESS
摘要 본 발명은, 산불안정기에 의해 카르복실기가 보호된 부분 구조를 갖는 반복 단위와 락톤 구조를 갖는 반복 단위로 구성되는 개환 메타세시스 중합체 수소 첨가물을 베이스 수지로서 함유하는 레지스트 조성물을 기판 상에 도포하고, 도포 후 가열 처리를 하여 제작한 레지스트막을 고에너지선으로 노광하고, 노광 후 가열 처리를 실시한 후에, 유기 용제 함유 현상액에 의해 레지스트막의 미노광 부분을 선택적으로 용해시키는 네가티브형 패턴 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명의 개환 메타세시스 중합체 수소 첨가물을 포함하는 레지스트 조성물은, 유기 용제 현상에서의 용해 콘트라스트가 높고, 노광, 가열 처리에 의해 산불안정기가 탈보호된 상태에 있어서도 높은 내드라이에칭성을 보인다. 이 레지스트 조성물을 이용하여 유기 용제 현상에 의한 네가티브형 패턴을 형성함으로써, 미세 트렌치 패턴이나 홀 패턴의 해상 성능을 향상시키는 동시에, 높은 내드라이에칭성을 발휘하는 것이 가능하게 된다.
申请公布号 KR101636106(B1) 申请公布日期 2016.07.04
申请号 KR20120040479 申请日期 2012.04.18
申请人 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 发明人 고바야시 도모히로;긴쇼 다케시;세키 아키히로;구마키 겐타로
分类号 G03F7/00;G03F7/26;G03F7/30;G03F7/32 主分类号 G03F7/00
代理机构 代理人
主权项
地址