| 摘要 |
복수의 하전 입자 빔렛들을 사용하여 웨이퍼를 노출하기 위한 방법. 방법은 빔렛들 사이에서 비-기능 빔렛들을 식별하는 단계, 웨이퍼의 제 1 부분을 노출하기 위해 빔렛들의 제 1 서브세트를 할당하는 단계 - 제 1 서브세트는 식별된 비-기능 빔렛들을 제외함-, 빔렛들의 제 1 서브세트를 사용하는 웨이퍼의 제 1 부분을 노출하기 위한 제 1 스캔을 수행하는 단계, 웨이퍼의 제 2 부분을 노출하기 위한 빔렛들의 제 2 서브세트를 할당하는 단계 - 제 2 서브세트는 또한 식별된 비-기능 빔렛들을 제외함-, 및 빔렛들의 제 2 서브세트를 사용하여 웨이퍼의 제 2 부분을 노출하기 위한 제 2 스캔을 수행하는 단계를 포함하고, 웨이퍼의 제 1 및 제 2 부분들은 겹치지 않고, 함께 노출될 웨이퍼의 완전한 영역을 포함한다. |
