Process for the electroless deposition of metals.

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur stromlosen Metallabscheidung in sehr gleichmäßiger Schichtdicke durch Versprühen eines wäßrigen Metallabscheidungsbads oderer mehrerer entsprechender Teilbäder auf ein Substrat, wobei das bzw. die Bäder im Augenblick des ersten Auftreffens auf das Substrat mit Wasser im Verhältnis von etwa 1 : 1 bis 1 : 20 verdünnt werden. Sobald aus dem so verdünnten Bad ein erster dünner Metallfilm abgeschieden ist, wird die Bad- bzw. Teilbäderkonzentration stufenweise oder in einem Schritt auf die übliche Konzentration erhöht.