发明名称 |
Photoresist of polyvinyl alcohol and ferric dichromate |
摘要 |
To accelerate printing of resist materials on a CRT color panel, an additive is incorporated into the resist to enhance cross-linking upon exposure to actinic radiation.
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申请公布号 |
US4288513(A) |
申请公布日期 |
1981.09.08 |
申请号 |
US19780893547 |
申请日期 |
1978.04.05 |
申请人 |
GTE LABORATORIES INCORPORATED |
发明人 |
KILICHOWSKI, KURT B.;CUKOR, PETER;BRECHER, CHARLES |
分类号 |
G03F7/04;H05K3/00;(IPC1-7):G03C5/00;G03C1/68 |
主分类号 |
G03F7/04 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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