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1﹒如下式唑化合物(I)之及其药学容 许监制法: 式中R1a及R1b为酯化羧基,R2及 R3为氢,C1─6烷基,卤素,硝基, 胺基,C1─6烷氧基,若氧基,C1─ 6烷硫基,C1─6烷基,醯胺基或 二烷胺基而可被羟基取代, 但R4为氢,C1─6烷基,羟基,C1 ─6烷氧基,C2─6烯氧基,二烷胺基 或2,2─二烷氧羰乙烯胺基,R5为C 1─6烷基或C2─6烯基,此包括:(1)令如下式化合物 式中R2,R3及A1各同上,与如下式 化合物 式中R1a及R1b各同上,R7为烷氧 基在如N,N─二甲基甲醯胺,乙醇,丙 醇,异丁醇,四氢喃,二苯醚,氯仿, 甲苯,二甲苯等溶剂中,于冷-加热下 反应,而得如下式化合物 式中R1a,R1b,R2,R3及A1 各同上,(2)令如下式化合物 式中R1a,R1b及A1各同上,在室 温或冷下,于惰性溶剂(如N,N─二 甲基甲醯胺,乙醇,丙醇,异丁醇,四氢 喃,氯仿,乙酸乙酯,乙酸等),用如 Raney镍,披钯碳等习用触媒还原, 而得如下式化合物 式中R1a,R1b及A1各同上,(3 )令如下式化合物 与如下式化合物:R2aOH或其反应性 衍生物(式中R2a为醯基),在如N, N─二甲基甲醯胺,二甲亚,四氢喃 ,二氯甲烷,氯仿,或其混液等惰性溶 剂,于冷-室温反应,而得如下式化合 物 式中R1a,R1b,R2a及A1各同 上。 2﹒如下式嘧啶骈唑化合物及其药学容许 盐之制法 式中R1为氢,羧基或酯化羧基,R2及 R3为氢,C1─6烷基,卤素,硝基, 胺基,C1─6烷氧基,若氧基,C1─ 6烷硫基,C1─6烷基,醯胺基或 二烷胺基而可取代以羟基, 但R4a为氢,C1─6烷基,羟基,C 1─6烷氧基,C2─6烯氧基或二烷胺 基,R6为酯化羧基,R5为C1─6烷 基或C2─6烯基,但若A2为 则R1为酯化羧基,此包括:(1)如下式化合物 式中R1a及R1b为酯化羧基,R2及 R3各同上,A1为 但R4为氢,C1─6烷基,羟基,C1 ─6烷氧基,C2─6烯氧基,二烷胺基 或2,2─二烷氧羰乙烯胺基,R5同上 ,在如N,N─二甲基甲醯胺,二苯醚, 联苯,石腊等溶剂之存在或不存在下,宜 于160─270C加热反应,而得如 下式化合物: 中R1a,R2,R3及A2同上,或( 2)令如下式化合物 式中R1a,R2及R3各同上,A2a 为 但R4a为氢,C1─6烷基,羟基,C 1─6烷氧基,C2─6烯氧基或二烷胺 基,R5为C1─6烷基或C2─6烯基 ,在碘化锂之存在下,于如N,N─二甲 基甲醯胺,三甲啶,二甲啶,啶等 惰性溶剂中加热后,用水处理来水解成如 下式化合物 式中R2,R3及A2a各同上。 3﹒依请求专利部份第1项之制法,以制造如 下式化合物 (式中R1a,R1b,R2,R3及R 4各同上)或其药学容许盐。 4﹒依请求专利部分第3项之制法,以制造[ (6─三甲基乙醯胺基─4─胺基)亚 甲基]丙烷二酸二乙酯5﹒依请求专利部 分第3项之制法,以制造[(6─丁醯胺 基─4─唑胺基)亚甲基]丙烷二酸 二乙酯。 6﹒依请求专利部分第1项之制法,以制造如 下式化合物 (式中R1a及R1b各同上,R5为C 1─6烷基)或其药学容许盐。 7﹒依请求专利部分第2项之制法,以制造如 下式化合物 (式中R1,R2,R3及R4a各同上 )或其药学容许盐。 8﹒依请求专利部分第7项之制法,以制造4 ─氧─10─三甲基乙醯胺基─4H─嘧 啶骈[1,2─c]─唑─3─羧酸 甲酯。 9﹒依请求专利部分第7项之制法,以制造4 ─氧─10─三甲基乙醯胺基─4H─嘧 啶骈[1,2─c]─唑─3─羧酸 或其药学容许盐。 10﹒依请求专利部分第7项之制法,以制造4 ─氢─10─(3,3─二甲基丁醯胺基 )─4H─嘧啶骈[1,2─c]─唑 ─3─羧酸或其药学容许盐。 11﹒依请求专利部分第7项之制法,以制造4 ─氧─10─(2─甲基丙醯胺基)─4 H─嘧啶骈[1,2─c]─唑─3 ─羧酸或其药学容许盐。 12﹒依请求专利部分第7项之制法,以制造4 ─氧─10─(2─乙基丁醯胺基)─4 H─嘧啶骈[1,2─c]─唑─3 ─羧酸或其药学容许盐。 13﹒依请求专利部分第2项之制法,以制造如 下式化合物 (式中R1及R5各同上)或其药学容许 盐。 14﹒依请求专利部分第2项之制法,以制造如 下式化合物 (式中R1a及R6各同上)或其药学容 许盐。 |
