摘要 |
<P>A.INSTALLATION COMPRENANT UNE CHAMBRE A VIDE 12 CONTENANT LE GENERATEUR DE FAISCEAU 14, ET UNE SOURCE DE HAUTE TENSION 16, CHAMBRE MONTEE MOBILE SUR UN RAIL VERTICAL 20 DE SORTE QUE L'ORIFICE DE SORTIE DU FAISCEAU 22 EST MOBILE PAR RAPPORT A LA SURFACE DE LA PIECE A SOUDER 28, UNE CHAMBRE ANNULAIRE 30 ENTOURANT LA CHAMBRE A VIDE 12 ET ETANT RELIEE PAR DES CONDUITES 34, 36 A UNE UNITE PRODUCTRICE DE VIDE 38.</P><P>B.INSTALLATION CARACTERISEE PAR UN DISPOSITIF 46, 48, 50, 46 POUR GENERER UNE ATMOSPHERE DE GAZ PROTECTEUR ENTRE LE MOYEN D'ETANCHEITE 30, 32, 56 ET L'ATMOSPHERE AMBIANTE.</P><P>C.L'INVENTION CONCERNE NOTAMMENT LES TECHNIQUES DE SOUDAGE PAR FAISCEAU D'ELECTRONS.</P>
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