发明名称 用来封闭两导管之间的缝的装置
摘要
申请公布号 TW107275 申请公布日期 1989.01.11
申请号 TW076106136 申请日期 1987.10.14
申请人 西屋电气公司 发明人 爱德华.普利史考特.席尔兹
分类号 G21C1/01 主分类号 G21C1/01
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1﹒在一具有一仪表设备通口的核反应器压力槽中,有一凸出凸缘(6)固定在上述通口(58)上,并有一穿过上述凸出凸缘的该表设备通口柱(4),一用来封住在上述通口(4)和上述凸出凸缘(6)(其构成分别轴向对齐的第一和第二导管)之间的缝隙的装置,包含:安置在第一(4)和第二(6)导管的缝隙上的密封器件(20),用来当第一导管(4)对着第二导管(6)相对地轴向位移时阻挡流体通过缝隙;第一间隔件(22)具有一第一螺纹面(26)并与第一导管(4)成包围关系地安置,上述第一间隔件(22)施加均质轴向力至第一导管(4)的外围上;以及第二间隔件(24)具有第二螺纹面(28)(其与上述第一螺纹面(26)配合),并与第二导管(6)成包围关系地安置,上述第二间隔件(24)施加一均质轴向力至第二导管(6)的外围上;上述第一螺纹面(26)和上述第二螺纹面(28)相配合而相对地轴向移置第一导管(4)和第二导管(6),利用当上述第一间隔件(22)和上述第二间隔件(24)相对转轴时使第一间隔件(22)施加上述轴向力至第一导管(4)及第二间隔件(24)施加上述轴向力至第二导管(6)而达成,其特征为与上述密封器件相邻并接触的构件在封闭缝隙时未转动,上述装置包括一环形削摩擦环(36)用来当封闭缝隙之时削减在上述第一间隔件(22)和上述第一导管(4)之间的接触摩擦。2﹒根据申请专利范围第1项之装置,其中上述削摩擦器(36)包含一轴承环。3﹒根据申请专利范围第2项之装置,其特征尚有一环形板件(38),被安插在上述削摩擦件(36)和第一导管(4)之间,以便将上述第一间隔件(22)的力量施加在第一导管(4)上。4﹒根据申请专利范围第3项之装置,其特征尚有上述第一间隔件(22)具有一环形朝内突出的径向凸缘(34),其上安置着上述削摩擦件(36)。5﹒根据申请专利范围第4项之装置,其特征尚有上述环形朝内突出的径向凸缘(34)被用来将上述削摩擦件(36)和上述环形板件(38)定位在上述第一间隔件(22)内。6﹒根据申请专利范围第5项之装置,其特征尚有扣件(40),被安置在上述第一间隔件(22)内并与上述环形板件(38)接触以将上述环形板件(38)和上述削摩擦件(36)固定在位置上。7﹒根据申请专利范围第6项之装置,其特征尚有上述第一间隔件(22)界定一环形凹槽(41),以及上述扣件(40)为被安置在上述凹槽(41)内之扣接式(snapfitting)器件。8﹒根据申请专利范围第1项之装置,其特征尚有上述第二间隔件(24)具有一环形凸缘(30)与第二导管(6)接触,以便使第二间隔件(24)的力量施加在第二导管(6)上。图示简单说明图1是本发明的纵断面图,被安置在一仪表设备通口的凸出凸缘和通口柱上。图2是本发明及通口孔取自图1的剖线2─2之横断面。图3是一仪表设备通口其合并本发明而安置在一核反应器压力槽内的示意图。
地址 美国