| 发明名称 |
MASQUE EN PORTE-A-FAUX ET PROCEDES DE FABRICATION ET D'APPLICATION DE CE DERNIER, EN PARTICULIER POUR LE TRAITEMENT DES SUBSTRATS PAR IRRADIATION OU FLUX DE PARTICULES |
| 摘要 |
<P>MASQUE EN PORTE-A-FAUX ET PROCEDES DE FABRICATION ET D'APPLICATION DE CE DERNIER, EN PARTICULIER POUR LE TRAITEMENT DES SUBSTRATS PAR IRRADIATION OU FLUX DE PARTICULES.</P><P>LE MASQUE EN FORME DE FEUILLE 1 EST PRECONTRAINT THERMIQUEMENT PAR LE CADRE 2 A LA TEMPERATURE D'UTILISATION. A CET EFFET, LE MATERIAU DU CADRE 2 PRESENTE UN COEFFICIENT DE DILATATION THERMIQUE SUPERIEUR AU MATERIAU DU MASQUE 1. POUR LA FABRICATION DU MASQUE, ON UTILISE UN PROCEDE DANS LEQUEL LE MASQUE EN FORME DE FEUILLE EST ENCASTRE DANS LE CADRE 2 A UNE TEMPERATURE INFERIEURE A LA TEMPERATURE D'UTILISATION.</P>
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| 申请公布号 |
FR2475787(A1) |
申请公布日期 |
1981.08.14 |
| 申请号 |
FR19800027456 |
申请日期 |
1980.12.24 |
| 申请人 |
SACHER GMBH RUDOLF |
发明人 |
GERHARD STENGL ET HANS LOSCHNER |
| 分类号 |
H01L21/263;G03F1/20;G03F7/20;G21K1/10;H01L21/027;(IPC1-7):21K1/02;01J19/08 |
主分类号 |
H01L21/263 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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