| 摘要 |
<p>Eine Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten durch Kathodenzerstäubung, die eine Kathode, Anode in einem Rezipienten, Gaszumisch- und -abführeinrichtungen sowie eine Vakuumerzeugungsanlage enthält, wobei die Substrate in die Kathode zu dieser isolierend eingebaut sind, so dass der zu beschichtende Teil des Substrates sich über die Kathodenoberfläche in den Bereich des Plasmas der Glimmentladung erstreckt. Das Beschichtungsverfahren wird vorteilhaft mittels Glimmentladung im anormalen Kathodenfall in einem Druckbereich von etwa 0,1 bis 5 Torr bei ca. 300 bis 1000 V durchgeführt.</p> |
