| 发明名称 |
(B1) ;METHOD OF EXPOSURE OF XEROGRAPHIC PHOTOSENSITIVE LAYER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
PL221051(A1) |
申请公布日期 |
1981.07.24 |
| 申请号 |
PL19790221051 |
申请日期 |
1979.12.31 |
| 申请人 |
POLITECHNIKA WARSZAWSKA |
发明人 |
DOMANSKI ANDRZEJ;ZAWISLAWSKI ZYGMUNT |
| 分类号 |
G03G;G03G13/04;G06K15/14;(IPC1-7):G03G/ |
主分类号 |
G03G |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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