发明名称 VERFAHREN ZUM DOTIEREN VON SILICIUMKOERPERN DURCH EINDIFFUNDIEREN VON BOR
摘要
申请公布号 DE2951292(A1) 申请公布日期 1981.07.02
申请号 DE19792951292 申请日期 1979.12.20
申请人 IBM DEUTSCHLAND GMBH 发明人 BRISKA,MARIAN,DIPL.-ING.;METZGER,GERT;PETER THIEL,KLAUS
分类号 C03C15/00;C30B31/02;H01L21/22;H01L21/223;H01L21/306;H01L21/311;(IPC1-7):C30B31/02;C30B29/06;H01L21/32 主分类号 C03C15/00
代理机构 代理人
主权项
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