| 发明名称 |
Verfahren zum Herstellen reiner Oberflächen Halbleiterkörpern |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
AT259626(B) |
申请公布日期 |
1968.01.25 |
| 申请号 |
AT19640005718 |
申请日期 |
1964.07.03 |
| 申请人 |
SIEMENS-SCHUCKERTWERKE AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
|
| 分类号 |
C30B25/02;H01L21/205;H01L21/3065 |
主分类号 |
C30B25/02 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
