| 主权项 |
1﹒制造下式化合物之方法在其中R为1至﹒6个碳 原子之烷基;R1为1至6个碳原子之烷基;R 2为3至8个碳原子之枝链之烷基;及R1与R 2为不同,其特点为使下式之S─烷基烷基二硫 代膦酸卤与式R1SH之一种硫醇(其中R,R 1,及R2系如上文界定及X为卤素)在胺或无 机水液存在下反应;或使烷基三硫代磷酸( 其中烷基团具有1至6个碳原子)与式R2SH 之烷基硫醇(其中R2系如上文所界定)于一种 第三级胺存在下反应,及随后将由此制得之产物 与式R1─X(其中R1及X系如上文界定)之 烷基卤反应。 2﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其特点为 X系氯。 3﹒根据上述请求专利部份第1或2项之方法,其特 点为该反应系在有机溶剂中进行。 4﹒根据上述请求专利部份第1至3﹒项任 一项之 方法,其特点为该溶剂系苯,甲苯,环己烷或2 ─丁酮。 5﹒根据上述请求专利部份第1至4项任一项之方法 ,其特点为胺系三甲胺,三乙胺,二甲基苯胺 ,二乙基苯胺,或啶。 6﹒根据上述请求专利部份第1至5项任一项之方法 ,其特点为无机为氢氧化钠。 7﹒根据上述请求专利部份第1至6项任一项之方法 ,其特点为该反应系在自20℃至100℃之温 度中进行者。 8﹒根据上述请求专利部份第1至7项任何一项之方 法,其特点为R1系1至6个碳原子之非枝链之 烷基。 9﹒根据上述请求专利部份第1至8项任何一项之方 法,其特点为R2系第三烷基。 10﹒根据上述请求专利部份第1至9项任一项之方法 ,其特点为R2系第三丁基。 11﹒根据上述请求专利部份第1至10项任一项之方 法,其特点为B系甲基或乙基。 12﹒根据上述请求专利部份第1至7﹒项任一项之方 法,在其中,R为甲基或乙基;R1为非枝链; 及R2为于接合至S之碳原子上分枝者。 13﹒根据上述请求专利部份第1至7﹒项任一项之方 法,其特点为R为甲基或乙基,R1为非枝链; 及R2系第三烷基。 14﹒根据上述请求专利部份第1至7项任一项之方法 ,其特点为R为乙基;R1系正一丙基;及R2 系异丙基。 15﹒根据上述请求专利部份第1至7﹒项任一项之方 法,其特点为R系乙基;R1系正一丙基;及R 2系第三丁基。根据上述请求专利部份第1至7 ﹒项任一项之方法,其特点为R系乙基;R1系 正一丙基;及R2系异丁基。 17﹒根据上述请求专利部份第1至7项任一项之方法 ,其特点为R系乙基;R1系正一丙基;及R2 系第二丁基。 18﹒根据上述请求专利部份第1至7项任一项之方法 ,其特点为R系乙基;R1系乙基;及R2系异 丙基。 |
