发明名称 |
Photopolymerizable mixtures and photocurable elements made therefrom. |
摘要 |
<p>Fotopolymerisierbare Gemische aus mindestens 40 Gew.% eines elastomeren Blockcopolymerisats aus einem Styrol und einem Dien, mindestens 1 Gew.% eines fotopolymerisierbaren Monomeren und 0,01 bis 10 Gew.% mindestens eines Fotopolymerisationsinitiators enthalten als elastomeres Blockcopolymerisat ein solches der Struktur A-B-C, worin A ein thermoplastischer, nichtelastomerer Polymerblock mit einer Einfriertemperatur über +25°C aus mindestens einer Styrol-Verbindung, B ein elastomerer Polymerblock mit einer Einfriertemperatur unter -20°C aus mindestens einem konjugierten Dien-Kohlenwasserstoff und C ein von B verschiedener Polymerblock mit einer Einfriertemperatur zwischen -30°C und +15°C aus mindestens einem konjugierten Dien-Kohlenwasserstoff sowie gegebenenfalls einer Styrol-Verbindung sind. Die fotopolymerisierbaren Gemische eignen sich besonders zur Herstellung von lichthärtbaren Elementen mit einer fotopolymerisierbaren Schicht auf einem Schichtträger.</p> |
申请公布号 |
EP0027612(A1) |
申请公布日期 |
1981.04.29 |
申请号 |
EP19800106164 |
申请日期 |
1980.10.10 |
申请人 |
BASF AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
HEINZ, GERHARD, DR.;RICHTER, PETER, DR.;JUN, MONG-JON, DR. |
分类号 |
C08F2/00;C08F2/48;C08F16/12;C08F16/14;C08F20/10;C08F20/18;C08F287/00;C08F297/00;C08F297/04;G03F7/033;(IPC1-7):03C1/68;03F7/10;08L53/02 |
主分类号 |
C08F2/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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