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<P>Sels permettant un durcissement en profondeur du matériau photodurcissable. <BR/> Il répond à la formule [(R)a (R**1 )b (R**2 )c S]**+ [Y]**- , dans laquelle R représente un radical organique monovalent répondant à la formule : <BR/> (CF DESSIN DANS BOPI)<BR/> <BR/> R**1 représente un radical organique aromatique monovalent en C6-C13, R**2 représente un radical aromatique divalent en C6-C20 formant une structure hétérocyclique ou cyclique condensée, R**3 représente un radical aromatique monovalent ou divalent en C6-C13, R**4 représente un radical aromatique divalent ou trivalent en C6-C13, X représente un -S- ou -O-, |Y|**- représente un anion non nucléophile |MQn|**- , où M représente un métal ou un métalloïde choisi dans le groupe constitué par le phosphore et l'arsenic, et Q représente un halogène, Z représente un radical divalent choisi dans le groupe constitué par -O-, -S-, -SO2-, -SO- et (CH2)e, a représente un nombre entier compris entre 1 et 3 inclus, b représente un nombre entier compris entre 0 et 2 inclus, c représente un nombre entier égal à 0 ou à 1, et la somme a + b + c est égale à 3, d représente un nombre entier égal à 0 ou à 1, et e représente un nombre entier compris entre 1 et 4 inclus. <BR/> Application au photodurcissement de résines époxy phénolformaldéhydes, etc.</P>
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