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PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE CELULAS SOLARES. A UNA PLACA DE SILICIO (10) CON UNA SUPERFICIE PRINCIPAL (11) Y PREVIAMENTE DOPADA CON BORO, SE LE SOMETE A UNA ATMOSFERA DE VAPOR DE AGUA A 900GC, Y SE FORMA UNA CAPA ENMASCARANTE (12) DE DIOXIDO DE SILICIO. SOBRE ESTA SE APLICA UNA CAPA FOTORRESISTIVA (14), Y POR EXPOSICION FOTOGRAFICA Y POSTERIOR DISOLUCION SE RETIRAN ALGUNAS PARTES DE ELLA, APARECIENDO UNAS REGIONES ABIERTAS (16). EN ESTAS, MEDIANTE LA ACCION DE UN MORDENTE, SE ELIMINA LA CAPA ENMASCARANTE (12), QUEDANDO UNAS ABERTURAS (17); ACTO SEGUIDO, POR INMERSION EN UN DISOLVENTE ORGANICO, DESAPARECE EL RESTO DE LA CAPA FOTORRESISTIVA 814), QUEDANDO LA PLACA (10), DANDO COMO RESULTADO UNA SUPERFICIE CON PLANOS INCLINADOS (19) QUE SE JUNTAN EN UN VERTICE (20). UN NUEVO TRATAMIENTO CON ACIDO FLUORHIDRICO ELIMINA LAS ZONAS DE CAPA ENMASCARANTE (12), QUEDANDO LA SUPERFICIE CON UNAS INDENTACIONES (22). H
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