Process and device for fast deflection of a corpuscular beam.

摘要

Für die schnelle Ablenkung eines Korpuskularstrahls zur lithografischen Erzeugung feiner Strukturen auf einem Target ist ein Ablenksystem bekannt, bei dem eine magnetische und eine elektrostatische Ablenkeinrichtung in Strahlrichtung hintereinanderliegend gekreuzt angeordnet sind. Um den ausseraxialen Farbfehler dieses Ablenksystems zu kompensieren, ist erfindungsgemäss vorgesehen, dass beide Ablenkeinrichtungen mit einer ersten Frequenz f1 derart angesteuert werden, dass die elektrostatische Ablenkung antiparallel und halb so gross wie die magnetische ist. Elektrostatisch wird zusätzlich mit einer höheren Frequenz f2, jedoch mit kleinerer Amplitude, abgelenkt.