发明名称 |
Polyoxazole precursors, their preparation and their use. |
摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft oligomere und/oder polymere Vorstufen von Polyoxazolen sowie ein Verfahren zur Herstellung dieser Vorstufen. Die Erfindung stellt sich die Aufgabe, neue strahlungsreaktive Polymer-Vorstufen bereitzustellen. Die Erfindung sieht dazu Additionsprodukte von olefinisch ungesättigten Monoepoxiden an hydroxylgruppenhaltige Polykondensationsprodukte von aromatischen und/oder heterocyclischen Dihydroxydiaminoverbindungen mit Dicarbonsäurechloriden oder -estern vor. Die erfindungsgemäßen strahlungsreaktiven Vorstufen eignen sich beispielsweise zur Herstellung hochwärmebeständiger Reliefstrukturen.</p> |
申请公布号 |
EP0025506(A1) |
申请公布日期 |
1981.03.25 |
申请号 |
EP19800104643 |
申请日期 |
1980.08.06 |
申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT BERLIN UND MUNCHEN |
发明人 |
AHNE, HELLMUT, DR.;KUHN, EBERHARD;RUBNER, ROLAND, DR. |
分类号 |
G02B6/44;C07C67/00;C07C231/00;C07C231/02;C07C231/12;C07C233/35;C07C233/43;C07C233/75;C07C233/78;C08G69/26;C08G69/32;C08G73/00;C08G73/02;C08G73/22;G03F7/027;G03F7/038;(IPC1-7):08G73/20;03C1/70;03F7/08 |
主分类号 |
G02B6/44 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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