PROCEDE DE FABRICATION D'UNE JONCTION P-N A TENSION DE RUPTURE ELEVEE

摘要

DES IONS D'UNE PREMIERE IMPURETE (ARSENIC) D'UN TYPE DETERMINANT UNE CONDUCTIVITE DONNEE ET POSSEDANT UN COEFFICIENT DE DIFFUSION RELATIVEMENT FAIBLE SONT REPARTIS DANS LE SUBSTRAT POUR Y FORMER UNE COUCHE D'UNE PREMIERE IMPURETE PAR IMPLANTATION SOUS UNE ENERGIE D'ACCELERATION DONNEE, SUIVIE D'UN CHAUFFAGE EN VUE DE LA DIFFUSION PARTIELLE DES IONS IMPLANTES. DES IONS D'UNE SECONDE IMPURETE (PHOSPHORE DESIGNE PAR PH) DU TYPE DETERMINANT LA MEME CONDUCTIVITE ET POSSEDANT UN COEFFICIENT DE DIFFUSION RELATIVEMENT FAIBLE SONT REPARTIS DANS LE SUBSTRAT PAR UNE SECONDE IMPLANTATION D'IONS DE MANIERE A FORMER UNE COUCHE D'UNE DEUXIEME IMPURETE SITUEE PLUS PROFONDEMENT DANS LE SUBSTRAT QUE LA PREMIERE COUCHE. LA PREMIERE COUCHE POSSEDE UNE CONCENTRATION EN IMPURETE SENSIBLEMENT PLUS ELEVEE QUE LA SECONDE. LES PREMIERE ET DEUXIEME IMPURETES SONT DIFFUSEES PAR CHAUFFAGE DU SUBSTRAT DE MANIERE A AMENER LES COUCHES A SE FONDRE OU COMBINER EN UNE SEULE COUCHE D'IMPURETE CONSTITUEE A LA FOIS DES PREMIERE ET DEUXIEME IMPURETES. LA COUCHE D'IMPURETE RESULTANTE EST SENSIBLEMENT INERTE VIS-A-VIS DES PHASES ULTERIEURES DE FABRICATION THERMIQUES ET POSSEDE UN PROFIL DE DISTRIBUTION RELATIVEMENT PROGRESSIF TEL QUE LA JONCTION P-N FORMEE POSSEDE UNE TENSION DE RUPTURE RELATIVEMENT ELEVEE.