| 发明名称 |
System for controlling the exposure time of a photoresist layer. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0023709(A1) |
申请公布日期 |
1981.02.11 |
| 申请号 |
EP19800104552 |
申请日期 |
1980.07.31 |
| 申请人 |
THE PERKIN-ELMER CORPORATION |
发明人 |
ROACH, TERENCE |
| 分类号 |
G01J1/44;G01J1/42;G03B27/72;G03F7/20;H01L21/30;H05B41/392;(IPC1-7):G03B41/00 |
主分类号 |
G01J1/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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