发明名称 Low-ohmic conductor for a semiconductor device and process for its manufacture.
摘要 Die Erfindung bezieht sich auf eine niederohmige Leitung mit einem an der Grenzfläche eines dotierten Halbleiterkörpers vorgesehenen, zu diesem entgegengesetzt dotierten, streifenförmigen Gebiet. Bei solchen Leitungen wird eine wesentliche Verringerung des ohmschen Widerstandes angestrebt. Nach der Erfindung wird dies durch einen auf dem Halbleiterkörper isoliert angeordneten Streifen aus hochdotiertem, polykristallinem Silizium erreicht, der das streifenförmige Gebiet innerhalb eines Kontaktloches kontaktiert. Der Anwendungsbereich der Erfindung umfaßt insbesondere Bitleitungen für Halbleiterspeicher.
申请公布号 EP0023241(A2) 申请公布日期 1981.02.04
申请号 EP19800101446 申请日期 1980.03.19
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT BERLIN UND MUNCHEN 发明人 HORNINGER, KARLHEINRICH, DR.;SCHWABE, ULRICH, DR.
分类号 H01L27/10;H01L21/3205;H01L21/339;H01L21/768;H01L21/8242;H01L23/52;H01L23/532;H01L27/108;H01L29/762;(IPC1-7):01L23/52;01L29/62;01L21/90 主分类号 H01L27/10
代理机构 代理人
主权项
地址