发明名称 DIODE DE SHOCKLEY ET SON PROCEDE DE FABRICATION
摘要 <P>LA PRESENTE INVENTION CONCERNE UNE DIODE DE SHOCKLEY ET SON PROCEDE DE FABRICATION.</P><P>CETTE DIODE DE SHOCKLEY COMPREND OUTRE LES COUCHES HABITUELLES 1, 2, 3 ET 4, DEUX COUCHES SUPPLEMENTAIRES 11 ET 12 DE MEME TYPE DE CONDUCTIVITE QUE LE SUBSTRAT 1 MAIS A DOPAGE PLUS ELEVE, LE DOPAGE DU SUBSTRAT ETANT MAINTENU A UNE VALEUR FAIBLE.</P><P>APPLICATION A LA FABRICATION DE DIODES DE SHOCKLEY DE TENSION DE RETOURNEMENT FAIBLE ET NETTEMENT DETERMINEE.</P>
申请公布号 FR2458905(A1) 申请公布日期 1981.01.02
申请号 FR19790014442 申请日期 1979.06.06
申请人 SILICIUM SEMICONDUCTEUR SSC 发明人 PIERRE BACUVIER
分类号 H01L29/417;H01L29/861;H01L29/87;(IPC1-7):H01L29/70;H01L21/22 主分类号 H01L29/417
代理机构 代理人
主权项
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