发明名称 Photomask
摘要 The edges of a photomask (23,33) have a constant saw-toothed structure so that the interference phenomenon of the wavelength at its maximum is offset and the limits of the resolution in a stepper are improved.
申请公布号 GB2302415(A) 申请公布日期 1997.01.15
申请号 GB19960012210 申请日期 1996.06.11
申请人 * HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO LTD 发明人 JOON * HWANG
分类号 G03F1/36;G03F1/68;H01L21/027 主分类号 G03F1/36
代理机构 代理人
主权项
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