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发明名称
Photomask
摘要
The edges of a photomask (23,33) have a constant saw-toothed structure so that the interference phenomenon of the wavelength at its maximum is offset and the limits of the resolution in a stepper are improved.
申请公布号
GB2302415(A)
申请公布日期
1997.01.15
申请号
GB19960012210
申请日期
1996.06.11
申请人
* HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO LTD
发明人
JOON * HWANG
分类号
G03F1/36;G03F1/68;H01L21/027
主分类号
G03F1/36
代理机构
代理人
主权项
地址
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