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发明名称 ETCHING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPS55161068(A) 申请公布日期 1980.12.15
申请号 JP19790068345 申请日期 1979.05.31
申请人 FUJITSU LTD 发明人 SHIBATA SHIYUUSAKU;YAMAMOTO TOSHIROU
分类号 C23F1/00;H01L21/302;H01L21/306 主分类号 C23F1/00
代理机构 代理人
主权项
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